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盛陽(yáng)小講堂：如何確立獨(dú)立權(quán)利要求

返回列表 來(lái)源：盛陽(yáng)專利 發(fā)布日期：2024-12-16 10:01:00
一般來(lái)說(shuō)，專利申請(qǐng)文件較為重要的就是獨(dú)立權(quán)利要求中的技術(shù)特征，其對(duì)專利保護(hù)的范圍有著至關(guān)重要的影響，因?yàn)橐坏┰摢?dú)立權(quán)利要求撰寫(xiě)不當(dāng)，或者是保護(hù)層次不合理、保護(hù)范圍過(guò)小，就非常容易被競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手繞過(guò)，那么專利保護(hù)就會(huì)形同虛設(shè)，申請(qǐng)人就無(wú)法通過(guò)專利獲得授權(quán)獲得實(shí)質(zhì)性收益。
盛陽(yáng)小講堂：如何確立獨(dú)立權(quán)利要求
盛陽(yáng)小講堂：如何確立獨(dú)立權(quán)利要求

專利中的技術(shù)方案指的是對(duì)要解決的技術(shù)問(wèn)題所采取的利用了自然規(guī)律的技術(shù)手段的集合，技術(shù)手段通常是由技術(shù)特征來(lái)體現(xiàn)的，但是技術(shù)特征的數(shù)量越多，就意味對(duì)技術(shù)方案的限制越多，相比之下，技術(shù)特征越多的技術(shù)方案，其保護(hù)范圍就越窄，那么在保證專利文件具備新穎性和創(chuàng)造性的前提下，就應(yīng)該盡量對(duì)技術(shù)方案進(jìn)行概括，將技術(shù)方案中的主要發(fā)明點(diǎn)記載在獨(dú)立權(quán)利要求中，因此，專利申請(qǐng)文件的獨(dú)立權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)盡量只記載解決技術(shù)問(wèn)題的“必要”的技術(shù)特征，因此，技術(shù)特征數(shù)量是衡量專利質(zhì)量的一個(gè)指標(biāo)，自然也是衡量專利代理質(zhì)量的一個(gè)重要指標(biāo)。
因此，為了提升專利文件的穩(wěn)定性，為申請(qǐng)人爭(zhēng)取更大的保護(hù)范圍，獨(dú)立權(quán)利要求中的技術(shù)特征還是需要進(jìn)行進(jìn)一步概括，但目前，我國(guó)專利多為基于現(xiàn)有技術(shù)的小改進(jìn)、小發(fā)明，缺乏基礎(chǔ)性專利，這些小改進(jìn)小發(fā)明大多會(huì)依賴其基礎(chǔ)專利而存在，實(shí)施起來(lái)有相當(dāng)?shù)碾y度，也就要求我國(guó)專利申請(qǐng)人能夠具有開(kāi)創(chuàng)性的發(fā)明創(chuàng)造，這樣獨(dú)立權(quán)利要求才能具有更少的技術(shù)特征，才能夠爭(zhēng)取更大的保護(hù)范圍。
專業(yè)的事情建議交給專業(yè)的人，專利申請(qǐng)除了向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交申請(qǐng)文件進(jìn)行申請(qǐng)，還涉及到答復(fù)審查意見(jiàn)，繳費(fèi)等。

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